IGBT的工作原理和工作特性.doc
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1、IGBT的工作原理和工作特性 IGBT的开关作用是通过加正向栅极电压形成沟道,给PNP晶体管提供基极电流,使IGBT导通。反之,加反向门极电压消除沟道,流过反向基极电流,使IGBT关断。IGBT的驱动方法和MOSFET根本一样,只需控制输入极N一沟道MOSFET,所以具有高输入阻抗特性。当MOSFET的沟道形成后,从P+基极注入到N一层的空穴少子,对N一层进展电导调制,减小N一层的电阻,使IGBT在高电压时,也具有低的通态电压。IGBT的工作特性包括静态和动态两类:1静态特性IGBT的静态特性主要有伏安特性、转移特性和开关特性。IGBT的伏安特性是指以栅源电压Ugs为参变量时,漏极电流与栅极电
2、压之间的关系曲线。输出漏极电流比受栅源电压Ugs的控制,Ugs越高,Id越大。它与GTR的输出特性相似也可分为饱和区1、放大区2和击穿特性3局部。在截止状态下的IGBT,正向电压由J2结承担,反向电压由J1结承担。如果无N+缓冲区,则正反向阻断电压可以做到同样水平,参加N+缓冲区后,反向关断电压只能到达几十伏水平,因此限制了IGBT的*些应用围。IGBT的转移特性是指输出漏极电流Id与栅源电压Ugs之间的关系曲线。它与MOSFET的转移特性一样,当栅源电压小于开启电压Ugs(th)时,IGBT处于关断状态。在IGBT导通后的大局部漏极电流围,Id与Ugs呈线性关系。最高栅源电压受最大漏极电流限
3、制,其最正确值一般取为15V左右。IGBT的开关特性是指漏极电流与漏源电压之间的关系。IGBT处于导通态时,由于它的PNP晶体管为宽基区晶体管,所以其B值极低。尽管等效电路为达林顿构造,但流过MOSFET的电流成为IGBT总电流的主要局部。此时,通态电压Uds(on)可用下式表示:Uds(on)Uj1UdrIdRoh 214 式中Uj1JI结的正向电压,其值为0.7IV; Udr扩展电阻Rdr上的压降;Roh沟道电阻。通态电流Ids可用下式表示:Ids=(1+Bpnp)Imos (215 式中Imos流过MOSFET的电流。由于N+区存在电导调制效应,所以IGBT的通态压降小,耐压1000V的
4、IGBT通态压降为23V。IGBT处于断态时,只有很小的泄漏电流存在。2动态特性IGBT在开通过程中,大局部时间是作为MOSFET来运行的,只是在漏源电压Uds下降过程后期,PNP晶体管由放大区至饱和,又增加了一段延迟时间。td(on)为开通延迟时间,tri为电流上升时间。实际应用中常给出的漏极电流开通时间ton即为td(on)tri之和。漏源电压的下降时间由tfe1和tfe2组成,如图258所示IGBT 在关断过程中,漏极电流的波形变为两段。因为 MOSFET 关断后, PNP 晶体管的存储电荷难以迅速消除,造成漏极电流较长的尾部时间, td(off) 为关断延迟时间, trv 为电压 Ud
5、s(f) 的上升时间。实际应用中常常给出的漏极电流的下降时间 Tf 由图 259 中的 t(f1) 和 t(f2) 两段组成,而漏极电流的关断时间 t(off)=td(off)+trv + t(f) 216 式中, td(off) 与 trv 之和又称为存储时间。IGBT的根本构造绝缘栅双极晶体管IGBT本质上是一个场效应晶体管,只是在漏极和漏区之间多了一个 P 型层。根据国际电工委员会的文件建议,其各局部名称根本沿用场效应晶体管的相应命名。 图1所示为一个N 沟道增强型绝缘栅双极晶体管构造,N+区称为源区,附于其上的电极称为源极。 N+ 区称为漏区。器件的控制区为栅区,附于其上的电极称为栅极
6、。沟道在紧靠栅区边界形成。在漏、源之间的P型区包括P+和P一区沟道在该区域形成,称为亚沟道区Subchannel region 。而在漏区另一侧的 P+ 区称为漏注入区Drain injector ,它是 IGBT 特有的功能区,与漏区和亚沟道区一起形成 PNP 双极晶体管,起发射极的作用,向漏极注入空穴,进展导电调制,以降低器件的通态电压。附于漏注入区上的电极称为漏极。 为了兼顾长期以来人们的习惯,IEC规定:源极引出的电极端子含电极端称为发射极端子,漏极引出的电极端子称为集电极端子。这又回到双极晶体管的术语了。但仅此而已。 IGBT的构造剖面图如图2所示。它在构造上类似于MOSFET ,其
7、不同点在于IGBT是在N沟道功率MOSFET 的N+基板漏极上增加了一个P+ 基板IGBT 的集电极,形成PN结j1 ,并由此引出漏极、栅极和源极则完全与MOSFET相似。图1 N沟道IGBT构造图2 IGBT的构造剖面图由图2可以看出,IGBT相当于一个由MOSFET驱动的厚基区GTR ,其简化等效电路如图3所示。图中Rdr是厚基区GTR的扩展电阻。IGBT是以GTR 为主导件、MOSFET 为驱动件的复合构造。 N沟道IGBT的图形符号有两种,如图4所示。实际应用时,常使用图25所示的符号。对于P沟道,图形符号中的箭头方向恰好相反,如图4所示。IGBT 的开通和关断是由栅极电压来控制的。当
8、栅极加正电压时,MOSFET 形成沟道,并为PNP晶体管提供基极电流,从而使IGBT导通,此时,从P+区注到N一区进展电导调制,减少N一区的电阻 Rdr值,使高耐压的 IGBT 也具有低的通态压降。在栅极上加负电压时,MOSFET 的沟道消失,PNP晶体管的基极电流被切断,IGBT 即关断。 正是由于 IGBT 是在N 沟道 MOSFET 的 N+ 基板上加一层 P+ 基板,形成了四层构造,由PNPNPN晶体管构成 IGBT 。但是,NPN晶体管和发射极由于铝电极短路,设计时尽可能使NPN不起作用。所以说, IGBT 的根本工作与NPN晶体管无关,可以认为是将 N 沟道 MOSFET 作为输入
9、极,PNP晶体管作为输出极的单向达林顿管。 采取这样的构造可在 N一层作电导率调制,提高电流密度。这是因 为从 P+ 基板经过 N+ 层向高电阻的 N一层注入少量载流子的结果。 IGBT 的设计是通过 PNPNPN 晶体管的连接形成晶闸管。2.IGBT模块的术语及其特性术语说明术语符号定义及说明测定条件参改说明书集电极、发射极间电压 VCES栅极、发射极间短路时的集电极,发射极间的最大电压 栅极发极间电压 VGES集电极、发射极间短路时的栅极,发射极间最大电压 集电极电流 IC集电极所允许的最大直流电流 耗散功率PC单个IGBT所允许的最大耗散功率 结温 Tj元件连续工作时芯片温厦 关断电流
10、ICES栅极、发射极间短路,在集电极、发射极间加上指定的电压时的集电极电流。漏电流 IGES集电极、发射极间短路,在栅极、集电极间加上指定的电压时的栅极漏电流 饱和压降V CE(sat)在指定的集电极电流和栅极电压的情况下,集电极、发射极间的电压。输入电容 Clss集电极、发射极间处于交流短路状态,在栅极、发射极间及集电极、发射极间加上指定电压时,栅极、发射极间的电容 3.IGBT模块使用上的本卷须知1. IGBT模块的选定在使用IGBT模块的场合,选择何种电压,电流规格的IGBT模块,需要做周密的考虑。a. 电流规格IGBT模块的集电极电流增大时,VCE(-)上升,所产生的额定损耗亦变大。同
11、时,开关损耗增大,原件发热加剧。因此,根据额定损耗,开关损耗所产生的热量,控制器件结温Tj在 150oC以下通常为平安起见,以125oC以下为宜,请使用这时的集电流以下为宜。特别是用作高频开关时,由于开关损耗增大,发热也加剧,需十分注意。一般来说,要将集电极电流的最大值控制在直流额定电流以下使用,从经济角度这是值得推荐的。b.电压规格IGBT模块的电压规格与所使用装置的输入电源即市电电源电压严密相关。其相互关系列于表1。根据使用目的,并参考本表,请选择相应的元件。 元器件电压规格600V1200V1400V电源电压200V;220V;230V;240V346V;350V;380V;400V;4
12、15V;440V575V2. 防止静电IGBT的VGE的耐压值为20V,在IGBT模块上加出了超出耐压值的电压的场合,由于会导致损坏的危险,因而在栅极-发射极之间不能超出耐压值的电压,这点请注意。在使用装置的场合,如果栅极回路不适宜或者栅极回路完全不能工作时珊极处于开路状态,假设在主回路上加上电压,则IGBT就会损坏,为防止这类损坏情况发生,应在栅极一发射极之间接一只10k左左的电阻为宜。此外,由于IGBT模块为MOS构造,对于静电就要十分注意。因此,请注意下面几点:1)在使用模块时,手持分装件时,请勿触摸驱动端子部份。2)在用导电材料连接驱动端子的模块时,在配线未布好之前,请先不要接上模块。
13、3)尽量在底板良好接地的情况下操作。4)当必须要触摸模块端子时,要先将人体或衣服上的静电放电后,再触摸。 5)在焊接作业时,焊机与焊槽之间的漏泄容易引起静电压的产生,为了防止静电的产生,请先将焊机处于良好的接地状态下。6)装部件的容器,请选用不带静电的容器。3.并联问题用于大容量逆变器等控制大电流场合使用IGBT模块时,可以使用多个器件并联。并联时,要使每个器件流过均等的电流是非常重要的,如果一旦电流平衡到达破坏,则电过于集中的那个器件将可能被损坏。 为使并联时电流能平衡,适当改变器件的特性及接线方法。例如。挑选器件的VCE(sat)一样的并联是很重要的。4.其他本卷须知1)保存半导体原件的场
14、所的温度,温度,应保持在常温常湿状态,不应偏离太大。常温的规定为535,常湿的规定为4575左右。2)开、关时的浪涌电压等的测定,请在端子处测定。IGBT是强电流、高压应用和快速终端设备用垂直功率MOSFET的自然进化。MOSFET由于实现一个较高的击穿电压BVDSS需要一个源漏通道,而这个通道却具有很高的电阻率,因而造成功率MOSFET具有RDS(on)数值高的特征,IGBT消除了现有功率MOSFET的这些主要缺点。虽然最新一代功率MOSFET器件大幅度改进了RDS(on)特性,但是在高电平时,功率导通损耗仍然要比IGBT 高出很多。IGBT较低的压降,转换成一个低VCE(sat)的能力,以
15、及IGBT的构造,与同一个标准双极器件相比,可支持更高电流密度,并简化 IGBT驱动器的原理图。1.IGBT的构造与工作原理图1所示为一个N 沟道增强型绝缘栅双极晶体管构造, N+ 区称为源区,附于其上的电极称为源极。N+ 区称为漏区。器件的控制区为栅区,附于其上的电极称为栅极。沟道在紧靠栅区边界形成。在漏、源之间的P 型区包括P+ 和P 一区沟道在该区域形成,称为亚沟道区 Subchannel region 。而在漏区另一侧的P+ 区称为漏注入区 Drain injector ,它是IGBT 特有的功能区,与漏区和亚沟道区一起形成PNP 双极晶体管,起发射极的作用,向漏极注入空穴,进展导电调
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