扫描电镜的综述及发展.docx
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1、扫描电镜的综述及发展1扫描电镜的原理扫描电镜(SCanning Electron MierOSCOPe,简写为SEM)是一个复杂的系统, 浓缩了电子光学技术、真空技术、精细机械结构以及现代计算机控制技术。成像 是采用二次电子或者背散射电子等工作方式,随着扫描电镜的发展和应用的拓展, 相继发展了宏观断口学和显微断口学。扫描电镜是在加速高压作用下将电子枪发射的电子经过多级电磁透镜汇集成 细小(直径普通为15nm)的电子束(相应束流为10 n-10-12A) o在末级透镜上 方扫描线圈的作用下,使电子束在试样表面做光栅扫描(行扫+帧扫)。入射电子 与试样相互作用会产生二次电子、背散射电子、X射线等各
2、种信息。这些信息的 二维强度分布随着试样表面的特征而变(这些特征有表面形貌、成份、晶体取向、 电磁特性等等),将各种探测器采集到的信息按顺序、成比率地转换成视频信号, 再传送到同步扫描的显像管并调制其亮度,就可以得到一个反应试样表面状况的 扫描图象1 o如果将探测器接收到的信号进行数字化处理即转变成数字信号, 就可以由计算机做进一步的处理和存储。扫描电镜主要是针对具有高低差较大、粗糙不平的厚块试样进行观察,于是 在设计上突出了景深效果,普通用来分析断口以及未经人工处理的自然表面。 机构组成扫描电子显微镜由三大部份组成:真空系统,电子束系统以及成像系统。真空系统真空系统主要包括真空泵和真空柱两部
3、份。真空柱是一个密封的柱形容器。真空泵用来在真空柱内产生真空。有机械泵、油扩散泵以及涡轮份子泵三大 类,机械泵加油扩散泵的组合可以满足配置鸨枪的SEM的真空要求,但对于装 置了场致发射枪或者六硼化桐枪的SEM,则需要机械泵加涡轮份子泵的组合。成像系统和电子束系统均内置在真空柱中。真空柱底端即为右图所示的密封 室,用于放置样品。之所以要用真空,主要基于以下两点原因:电子束系统中的灯丝在普通大气中会迅速氧化而失效,所以除了在使用SEM 时需要用真空以外,平时还需要以纯氮气或者情性气体充满整个真空柱。为了增大电子的平均自由程,从而使得用于成像的电子更多。电子束系统电子束系统由电子枪和电磁透镜两部份组
4、成,主要用于产生一束能量分布极 窄的、电子能量确定的电子束用以扫描成像。电子枪电子枪用于产生电子,主要有两大类,共三种。一类是利用场致发射效应产生电子,称为场致发射电子枪。这种电子枪极其 昂贵,在十万美元以上,且需要小于IO-IOtorr的极高真空。但它具有至少IOoO 小时以上的寿命,且不需要电磁透镜系统。另一类则是利用热发射效应产生电子,有铝枪和六硼化桐枪两种。鸨枪寿命 在30、IOO小时之间,价格便宜,但成像不如其他两种璀璨,常作为便宜或者标 准SEM配置。六硼化镯枪寿命介于场致发射电子枪与鸨枪之间,为 200、IOOO小时,价格约为鸨枪的十倍,图象比鹤枪璀璨510倍,需要略高 于鹤枪的
5、真空,普通在10-7torr以上;但比鸽枪容易产生过度饱和和热激发问 题。电磁透镜热发射电子需要电磁透镜来成束,所以在用热发射电子枪的SEM上,电磁透 镜必不可少。通常会装配两组:汇聚透镜:顾名思义,汇聚透镜用汇聚电子束,装配在真空柱中,位于电子 枪之下。通常不止一个,并有一组汇聚光圈与之相配。但汇聚透镜仅仅用于汇聚 电子束,与成像会焦无关。物镜:物镜为真空柱中最下方的一个电磁透镜,它负责将电子束的焦点汇聚 到样品表面。成像系统电子经过一系列电磁透镜成束后,打到样品上与样品相互作用,会产生次级电子、背散射电子、欧革电子以及X射线等一系列信号。所以需要不同的探测 器譬如次级电子探测器、X射线能谱
6、分析仪等来区分这些信号以获得所需要的信 息。虽然X射线信号不能用于成像,但习惯上,仍然将X射线分析系统划分到 成像系统中。有些探测器造价昂贵,比如RObinSonS式背散射电子探测器,这时,可以使 用次级电子探测器代替,但需要设定一个偏压电场以筛除次级电子。2扫描电镜的特点(D能够直接观察样品表面的结构,样品的尺寸可大至 120mm*80mm*50mmo(2)样品的制备过程简单,不用切成薄片。(3)样品可以在样品室中作三维空间的平移和旋转,因此可以从各种角度 对样品进行观察。(4)景深大,图象富有立体感,可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微 结构。扫描电镜的景深较光学显微镜大几百倍,比透射电镜
7、大几十倍。(5)图象的放大范围广,分辨率也比较高。可放大十几倍到几十万倍,它 基本上包括了从放大镜、光学显微镜直到透射电镜的放大范围。分辨 率介于光学显微镜与透射电镜之间,可达3nm。(6)电子束对样品的损伤与污染程度较小。(7)能够进行动态观察(如动态拉伸、压缩、弯曲、升降温等)。(8)在观察形貌的同时,还可利用从样品发出的其他信号做微区成份及晶 体学分析。图1传统扫描电镜的主体结构3近代扫描显微镜的发展扫描电子显微镜早在1935年便已经被提出来了。1942年,英国首先制成一 台实验室用的扫描电镜,但由于成像的分辨率很差,照像时间太长,所以实用价 值不大。经过各国科学工作者的努力,特别是随着
8、电子工业技术水平的不断发 展,到1956年开始生产商品扫描电镜。现在扫描电镜已广泛用于材料科学(金 属材料、非金属材料、纳米材料)、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、 地质勘探、病虫害的防治、灾害(火灾、失效分析)鉴定、刑事侦察、宝石鉴定、 工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。4现代扫描电镜的发展近代扫描电镜的发展主要是在二次电子像分辨率上取得了较大的发展。但对 不导电或者导电性能不太好的样品还需喷金后才干达到理想的图象分辨率。随着 材料科学的发展特殊是半导体产业的需求,要尽量保持试样的原始表面,在不做 任何处理的条件下进行分析。早在20世纪80年代中期,便有厂家根据新材料( 主要是
9、半导体材料)发展的需要,提出了导电性不好的材料不经过任何处理也能 够进行观 察分析的设想,到90年代初期,这一设想就已有了实验雏形,90年代末 期,已变成比较成熟的技术。其工作方式便是现在已为大家所接受的低真空和 低电压,最近几年又浮现了摹拟环境工作方式的扫描电镜,这就是现代扫描电镜 领域浮现的新名词“环扫”,即环境扫描电镜。4.1 低电压扫描电镜在扫描电镜中,低电压是指电子束流加速电压在IkV摆布。此时,对未经导电 处理的非导体试样其充电效应可以减小,电子对试样的辐照损伤小,且二次电子的 信息产额高,成像信息对表面状态更加敏感,边沿效应更加明显,能够适应半导体 和非导体分析工作的需要。但随着
10、加速电压的降低,物镜的球像差效应增加,使得 图象的分辨率不能达到很高,这就是低电压工作模式的局限性。4.2 低真空扫描电镜低真空为是为了解决不导电试样分析的另一种工作模式。其关键技术是采用 了一级压差光栏,实现了两级真空。发射电子束的电子室和使电子束聚焦的镜筒 必须置于清洁的高真空状态,普通用1个机械泵和扩散泵来满足之。而样品室不 一定要太高的真空,可用另一个机械泵来实现样品室的低真空状态。当聚焦的电 子束进进低真空样品室后,与残存的空气份子碰撞并将其电离,这些离化带有正电 的气体份子在一个附加电场的作用下向充电的样品表面运动,与样品表面充电的 电子中和,这样就消除了非导体表面的充电现象,从而
11、实现了对非导体样品自然状 态的直接观察,在半导体、冶金、化工、矿产、陶瓷、生物等材料的分析工作方 面有着比较突出的作用。4.3 环境扫描电镜(ESEM)上述低真空扫描电镜样品室最高低真空压力为400Pa,现在有厂家使用专利技 术,可使样品室的低真空压力达到260OPa,也就是样品室可容纳份子更多,在这种 状态下,可配置水瓶向样品室输送水蒸气或者输送混合气体,若跟高温或者低温样 品台联合使用则可摹拟样品的四周环境,结合扫描电镜观察,可得到环境条件下 试样的变化情况。环扫实现较高的低真空,其核心技术就是采用两级压差光栅 温和体二次电子探测器,还有一些其它相关技术也相继得到完善。它是使用1个 份子泵
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