第1章3三极管.ppt
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1、第 一 章,半 导 体器 件 与 模 型,1.4 半导体三极管,1.4.1 三极管的结构、符号及分类,双极型晶体管,1.基本结构和符号,平面型(NPN)三极管制作工艺:,在 N 型硅片(集电区)氧化膜上刻一个窗口,将硼杂质进行扩散形成 P 型(基区),再在 P 型区上刻窗口,将磷杂质进行扩散形成N型的发射区。,扩散法,在 N 型锗片(基区)两边各置一个铟球,加温铟被熔化并与 N 型锗接触,冷却后形成两个 P 型区,集电区接触面大,发射区掺杂浓度高。,合金型(PNP)三极管制作工艺:,和金法,2.三极管的分类,按照材料分:硅管、锗管等,按照频率分:高频管、低频管,按照功率分:小、中、大功率管,按
2、照结构分:NPN型和PNP型,三极管结构示意图和符号,三极管结构示意图和符号,1.4.2 三极管放大区的工作原理,三极管的工作状态,以 NPN 型管为例,双极型三极管的符号中,发射极的箭头代表发射极电流的实际方向。从外表上看两个N区,(或两个P区)是对称的。,三极管的主要应用电流放大,三极管具有电流放大作用的条件,双极型三极管的结构可看成由两个背靠背的PN结组成,三极管若实现放大,必须从三极管内部结构和外部所加电源的极性来保证。,三极管内部结构要求:,1.发射区高掺杂。,通常只有几微米到几十微米,而且掺杂浓度低。,3.集电结面积大。,2.基区做得很薄。,?,三极管具有电流放大作用的内因:,晶体
3、管具有电流放大作用的外部条件:,1.电流的传输过程,VCC,内部载流子的传输过程,1)发射极正偏与注入载流子:,电子注入:,空穴注入:,发射区中多子电子通过发射结源源不断注入基区。,基区中多子空穴通过发射结注入发射区。,(基区多子数目较少,空穴电流可忽略),发射极电流 IE:多子扩散电流,2)非平衡少子(电子)在基区中的扩散与复合:,基极电流IB:电子与空穴的复合电流,复合和扩散:,多数电子在基区继续扩散,到达集电结的一侧。,电源VEE的正端不断从基区拉走电子,好像不断供给基区空穴。复合的数目与拉走的电子数目相等,基本维持基区的空穴浓度。,集电极电流 IC:多子漂移电流,集电区和基区的少子在外
4、电场的作用下进行的漂移运动而形成。,反向饱和电流 ICBO:,电流的传输过程:,发射结正偏电压控制 IE 和 IB 通过注入、扩散、收集转化为 IC。且转化几乎不受集电结反偏电压的影响,电流的传输过程:,三极管的放大作用是通过载流子传输体现出来的。,三极管的电流分配关系,发射结正偏 集电结反偏,电流分配关系,本质:,?,外部条件:,集电极电流,发射极电流,基极电流,外电路电流平衡方程,发射效率,基区的传输效率,2.直流电流传输方程,三极管(放大电路)的组态,三极管(放大电路)的三种组态,外部条件:发射结正偏,集电结反偏,1)共基极电路直流电流传输方程,输出电流与输出电流之间的关系?,共基组态直
5、流电流传输系数,2)共发射极电路直流电流传输方程,共发电路直流电流传输系数:,三极管的基极电流对集电极电流具有控制作用,表示 IB0(相当于基极开路)时,集电极到发射极的直通电流。,3)共集电极电路直流电流传输方程,三极管的电流分配关系,一组三极管电流关系典型数据,任何一列电流关系符合 IE=IC+IB,IB IC IE,IC IE,当 IB 有微小变化时,IC 较大。说明三极管具有电流放大作用。,在表的第一列数据中,IE=0 时,IC=0.001 m A=ICBO,ICBO 称为反向饱和电流。,在表的第二列数据中,I B=0时,IC=0.01 m A=ICEO,称为穿透电流。,共射电流放大系
6、数,共基电流放大系数,三极管的交流电流传输系数,与 两个参数之间满足以下关系:,三极管的放大作用,主要是依靠发射极电流通过基区传输,到达集电极而实现的。,放大作用原理,关键:,(1)内部条件:发射区杂质浓度远大于基区杂质浓度,且基区很薄。(2)外部条件:发射结正向偏置,集电结反向偏置。,实现传输过程的两个条件:,1.4.3 三极管的伏安特性曲线,1.共基电路特性曲线,(1)输入特性曲线,特性曲线左移,原因?,基区宽度调制效应:输出端电压的增加使曲线左移,输出端电压,浓度曲线斜率变大 线线,(2)输出特性曲线,特性曲线上翘?,基区宽度调制效应:特性曲线上翘,特性曲线测试电路,输入特性:,输出特性
7、:,2.共发射极电路特性曲线,(1)输入特性,1)v CE=0 时的输入特性曲线,当 v CE=0 时,基极和发射极之间相当于两个 PN 结并联。,当 b、e 之间加正向电压时,应为两个二极管并联后的正向伏安特性。,2)v CE 0 时的输入特性曲线,基区宽度效应:特性右移,(2)输出特性曲线,划分三个区:截止区、放大区和饱和区。,i B 0 的区域。,两个结都处于反向偏置。,i B=0 时,i C=ICEO。,硅管约等于 1 A,锗管约为几十 几百微安。,截止区:,放大区:,发射结正偏、集电结反偏,对 NPN 管 v BE 0,v BC 0,集电极电流和基极电流体现放大作用,饱和区:,两个结
8、均正偏,对 NPN 型管,v BE 0,v BC 0。,特点:i C 基本上不随 i B 而变化,在饱和区三极管失去放大作用。,i C i B,硅管:VCES 0.4 V,过饱和:,饱和管压降:,锗管:VCES 0.2 V,导致曲线随 v CE 增加而上倾。输出特性曲线向左延伸交于一点,相应的电压 VA称为厄尔利电压。,基区宽度调制效应:,三极管工作状态的判断,测量某硅材料NPN型BJT各电极对地的电压值如下,试判别管子工作在什么区域?,例1.10,原则:,解:,对NPN管放大时 VC VB VE 对PNP管放大时 VC VB VE,(1)放大区(2)截止区(3)饱和区VCE VBE,三极管的
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